今天共享的是：光刻机产业深度系列专题论说（一）：“进制程关键重要，半导体缔造明珠，光刻机市集迎国产化机遇(1)

论说筹算：43页

本论说聚焦光刻机产业，深刻明白其中枢性位、市集面貌及国产化远景。光刻系芯片制造关键，借摩尔定律运转，依瑞利准则升迁折柳率，28nm 为工艺关键节点。光刻机为半导体缔造翘楚，光学系统资本占比达 30%，历经五代演进，结构复杂，集多学科前沿时期，含光源、曝光、责任台等中枢系统及多缓助模块。世界市集限度弘大且增长迅猛，2011 年达 257 亿好意思元，2022 - 2028 年 CAGR 有望达 6%，ASML 主导高端，Nikon、Canon 分据中低端，ASML 借高强度研发参加自如上风。我国因晶圆厂扩产需求大增，然受好意思日荷阻滞，国产化大势所趋。国产程度中，上海微电子 600 系可量产 90nm 芯片，500 系后谈缔造占国内 80%份额；科益虹源 193nm 激光器毒害国外把持；国望光学、国科精密、华卓精科等在光学系统与双工件台发达显贵。产业链关联企业各具专长，茂莱光学赋能 I 线物镜，福晶科技拓展超精密光学业务，福光股份领衔特种光学镜头，腾景科技深耕合分束器研发，波长光电切入半导体镜头界限，永新光学供应精密仪器组件，蓝特光学鼓舞光刻机镜头研发，炬光科技供应光场匀化器并谋拓展，赛微电子担当 MEMS 代工与微镜供应要角。产业虽挑战重重，如国外时期毒害、国产落地徐徐、需求波动及出口治理风险，但国产毒害晨曦已现，握续革命、完善产业链将升迁国产化水平，增强半导体产业自主可控力，助力行业毒害发展瓶颈，于世界竞争中崭露头角，清静产业计策地位，运转行业迈向更高层级。

以下为论说节选实验